EVG6200 NT以其自動化靈活性和可靠性而著稱,可在最小的占位面積上提供了優于其他品牌的掩模對準技術,并具有最高的產能,先進的對準功能和優化的總擁有成本。操作員友好型軟件,最短的掩模和工具更換時間以及高效的全球服務和支持使它成為任何制造環境的理想解決方案。EVG6200 NT或安裝的EVG6200 NT Gen2掩模對準系統有半自動或自動配置,并配有集成的振動隔離功能。
我們的EVG770分步重復納米壓印光刻機是用于步進式納米壓印光刻的通用平臺,可用于有效地進行母版制作或對基板上的復雜結構進行直接圖案化。這種方法允許從蕞大50 mm x 50 mm的小模具到蕞大300 mm基板尺寸的大面積均勻地復制模板。結合金剛石車削或直接寫入方法,分步重復刻印通常用于有效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。